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    磁控溅射真空镀膜设备对靶的设计有很多类型，有圆形靶、矩形靶、柱状靶、锥形靶等，它们各自的功率密度范围都不尽相同：
    (1)圆形平面磁控靶功率密度范围一般为1~25瓦/cm2。
    　　(2)矩形平面磁控靶功率密度范围一般为1~36瓦/cm2。
    　　(3)柱状磁控靶、锥形平面磁控靶(S枪)功率密度范围一般为40~50瓦/cm2。
   
    东莞市汇成真空科技有限公司 专业真空设备制造商
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    2013-6-22
   

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