所谓的硅材料，一般包括单晶硅、多晶硅、太阳能硅片电池以及半导体生产用的硅材料，这些产品中含有微量的污染就会导致元器件失效。清洗的杂质主要包括包括有机物和无机物。无论是那种杂质都会导致各种缺陷，因此，对于硅材料的清洗和生产必须使用超纯水。下面为您介绍硅材料清洗用超纯水处理设备工艺。
超纯水设备指采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理等方法，将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水处理设备，用于制取超纯水的机器，超纯水最初是美国科技界为了研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水，这种水中除了水分子(H20)外，几乎没有什么杂质，更没有细菌、病毒、含氯二恶英等有机物，当然也没有人体所需的矿物质微量元素，超纯水无硬度，口感较甜，又常称为去离子水，可直接饮用，也可煮沸饮用。超纯水，是一般工艺很难达到的程度，如水的电阻率大于18MΩ*cm，接近于18.25MΩ*cm则称为超纯水。超纯水设备行业水质标准超纯水水质分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。
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