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    半导体清洗用超纯水处理工艺流程
   
    　　任何设备中的整体工艺流程非常严谨，需要不同程序相互配合。半导体清洗用超纯水的水质也要有严格要求，原水经过南方泵的加压进入四级预处理装置，预处理能去除水中的铁锈、大颗料物质。最后经过双极反渗透装置可以进一步去除水中的杂质，最后经过半导体清洗用超纯水处理工艺最后一道工序微孔过滤器来对水进行深度处理使水达到用水要求。
   
    　　半导体清洗用超纯水生产设备特点
   
    　　电子技术的发展对于人们日常生活有很大的影响，其中最不可缺少的半导体领域越来越受到重视。半导体清洗用超纯水设备中的RO膜孔径小至纳米级，采用双级反渗透超过国家实验室一级用水标准。
   
    　　莱特莱德已启动线上办公，我们将24小时在线接听电话，竭诚为您解决问题!
   

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