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    电弧蒸发镀膜技术利用弧光放电的高温使镀材蒸发，不像电阻式蒸发镀膜技术会由于过高温度在对镀材进行蒸发的同时，也使坩埚的部分材料蒸发，使镀材受污染而纯度降低，和电子束加热的方法类似，只对镀材形成高温，产生的温度比电阻式蒸发的温度还要高很多倍，对高熔点的镀材也可以进行加热蒸发，而电弧蒸发镀膜装置结构相对于电子束蒸发装置简单，因此价格也相对便宜。
    将镀材置于电极顶端，通过控制电极之间的距离使电弧点燃，发生弧光放电，弧光放电所产生的温度达到3000℃以上，而且是瞬间激发的高温，足以熔化很多像石墨这样的高熔点镀材并蒸发，蒸发后的镀材气体沉积到工件表面成膜，可以利用点燃电弧的次数或点燃的时间来控制膜层的百度，如需要薄一点的膜层，可以减少电弧点燃的次数或者缩短点燃的时间，相反操作就可以获得厚一点的膜层。但电弧蒸发镀膜技术也存在一些缺点，由于弧光放电的瞬间激发的，很容易会产生一些微米量级的电极颗粒，混到膜层材料中使膜层均匀性受到影响。
    由汇成真空镀膜设备 http://www.suichenggd.cn/整理提供
    2013-10-7

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