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发表人:ltldltld 发表时间:2020/3/23 21:37:00  

 

 本栏论题: 半导体超纯水设备中的EDI膜块可以清洗吗  [502]

    EDI是可以清洗;在运行中,如果将较差的给水引进膜块,或者电源不足,就会增加维修工作量。给水中主要引起污染的是有机物、硬度和铁。给水硬度较高将引起离子交换膜浓水侧结垢,而使产水水质降低。给水硬度、溶解的CO2和高PH值会加速结垢,可以用适当的酸液清洗污垢。
   
      给水中的有机物污染,会在离子交换树脂和离子交换膜表面形成薄膜,因而将严重影响离子迁移速率,因此影响产水水质。当发生此现象时,淡水室需用适当的清洗剂清洗。有机物清洗过程请参考附录。如果 EDI 膜块在无电或给电不足的情况下运行,淡水室内离子交换树脂处于离子饱和状态,产水的水质会降低。为了再生离子交换树脂,将水流通过膜块,并慢慢增加电源供电电压,使被吸附的离子迁移出系统从而对树脂进行再生。树脂再生时,膜块应在较高电流和较低水流量的条件下运行。
   
      如果膜块外部需要清洗,请仅使用温和的清洁剂水溶液,不可使用溶剂。为了防止触电,在清洗之前,要确定电源已断开。
   
      莱特莱德已启动线上办公,我们将24小时在线接听电话,竭诚为您解决问题!
   

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