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类金刚石膜的真空镀膜机镀膜技术除了溅射技术外,还可以通过离子束镀膜法、磁过滤真空弧镀膜法和激光电弧镀膜法。 离子束镀膜法是以石墨为靶材,通入氩气形成氩等离子体,然后轰击靶材溅射出石墨离子,真空室内存在的电磁场对石墨离子提供加速度,使石墨离子加速沉积在工件表面,这种镀膜法有别于磁控溅射镀膜法的是另外还增加了离子枪,可以在靶材离子沉积的同时,产生离子束轰击工件表面,对于渐渐成型的类金刚石膜进一步轰击,这样的话,靶材离子沉积的速度就大幅度提高了,而且这样镀制的薄膜附着力非常高,膜层的均匀性和致密性更好,即使不加热也可以镀制出很好的薄膜,对于那些不能加热的工件,离子束镀膜法也可以镀膜了,但这种镀膜技术不能镀膜大面积的工件,因为离子枪很小,产生的离子束能覆盖的面积也相应小了。 磁过滤真空弧镀膜法使用的电源是电弧电源,它会触发出电极,石墨靶材为阴极,在电弧电源的作用下,电极与阴极之间就会产生弧光放电,形成高密度的碳等离子流,具有离化率高的特点,电弧电源会产生大颗粒和中性原子,再利用磁过滤线圈把这些原子过滤掉,这样的话,沉积到工件表面形成薄膜的就差不多都是碳离子了,薄膜的纯度也就提高了。 激光电弧镀膜法利用的是高能激光束,使用的电源是脉冲偏压电源,当激光束射向石墨靶材,会有碳原子被蒸发出,这些碳原子在脉冲偏压电源产生的电流作用下,产生电弧来制造离子轰击到工件表面形成薄膜,具有沉积速率高的特点。 类金刚石膜的真空镀膜机制造方法是多种多样的,就一种薄膜,可以涉及到不同层次的镀膜技术,对于真空镀膜机镀制涂层的各种技术研究还是一条很长远的道路。 转载请注明出处:汇成真空科技有限公司 专业真空设备制造商http://www.suichenggd.cn/
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