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    真空镀膜设备的镀膜技术日益发展，镀膜成品对其要求也日益增大，之前，我们都是专注于小产品表面镀膜处理，但生活质量的不断提高，小面积的镀膜已经无法满足了，随之发展的就是大面积镀膜技术的研发。
    大家一般总是认为既然小面积可以做的，只要把真空镀膜机做得大点，那当然就可以把大面积的产品放进设备里进行镀膜就可以了，但大面积镀膜所需要考虑的问题远远大于小面积镀膜，如大面积镀膜对真空镀膜机功率的要求，镀膜后表面涂层是否能像小面积镀膜后的那样均匀、致密，膜层厚度的控制等等。
    为了能在大面积工件上镀制出均匀、光滑的膜层，已经研发出通过磁控溅射技术来镀膜，有别于像离子束镀膜技术那种由于离子枪的限制而限制镀膜范围的技术，总体来说，磁控溅射镀膜的原理和镀制小面积膜层是一样的，只是在镀膜的过程中，要注意溅射的速率，只有调整好溅射的速率才能保证膜层的均匀性和致密性，所以在设计真空镀膜机时要调整好真空室内各部件的结构。
    大面积镀膜技术的广泛应用，为我们生活提供了更好的产品，如不锈钢装饰板、大型玻璃等，这些由真空镀膜机镀膜后的产品，大幅度的提高了我们的生活质量。
   
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